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用数字信号完成对数字量进行算术运算和逻辑运算的电路称为数字电路或数字系统。由于它具有逻辑运算和逻辑处理功能,所以又称数字逻辑电路。
工作任务不同
三极管的工作状态不同
模拟信号与数字信号
概述:数字电路所处理的各种数字信号都是以数码(一种符号)形式给出的,用数码表示数量的大小时采用的各种计数进位制规则称为数制
进位制:多位数码每一位的构成以及从低位到高位的进位规则
基数:数制所使用数码的个数
位权:在某一进位制的数中,每一位的大小都对应着该位上的数码乘上一个固定的数,这个固定的数就是这一位的权数,权数是一个寡
常用的进制
二进制的算术运算
当两个二进制数码表示两个数量大小时,他们之间可以进行数值运算,这种运算称为算术运算
用二进制数表示各种数字或符号的过程称为编码。
概念:两个相邻代码之间仅有1位数码不同的无权码
优点:功耗低、变化快、出错的几率小
逻辑代数的基本运算规律
逻辑代数的基本定理
逻辑函数的描述方法
逻辑函数描述方法间的转换
逻辑函数的公式化简法
逻辑函数的两种标准形式
卡诺图化简法
概念:用以实现基本逻辑和复合逻辑运算的单元电路称为门电路,或逻辑门
正逻辑:用高电平表示逻辑1,用低电平表示逻辑0
负逻辑:用低电平表示逻辑1,用高电平表示逻辑0
与(AND)符号:“·”,Y=A·B
或(OR)符号:”+”,Y=A+B
非(NOT)符号:“ ‘ 或 — ”,Y=A’
复合门电路又称组合门电路,由基本门电路组合而成(与非门、或非门、与或非门、异或门、同或门)。
与非门
或非门
与或非门
异或门
同或门
半导体三极管(Bipolar Junction Transistor,BJT),也称双极型晶体管、晶体三极管。
对于NPN管,它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成,发射区与基区之间形成的PN结称为发射结,而集电区与基区形成的PN结 称为集电结,三条引线分别称为发射极e(Emitter)、基极b(Base)和集电极c(Collector),类型分为NPN型与PNP型,如下图:
场效应晶体管(Field Effect Transistor,FET),简称场效应管。主要有两种类型:结型场效应管(junction FET,JFET)和金属-氧化物半导体场效应管(metal-oxide semiconductor FET,MOS-FET)。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高(107~1015Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。
近年来,数字电路基本上都是由 MOSFET 场效应管构成的,简称MOS管。MOSFET是一种在施加电压后可以像开关一样工作的半导体器件。按照导电载流子的不同,MOSFET分为N沟道MOS(NMOS)管和P沟道MOS(PMOS)管。按照导电沟道形成机理的不同分为增强型和耗尽型。
N沟道增强型MOS管的结构示意图及符号如图3.2.1所示。它是在P型衬底上,用扩散法制作两个高掺杂浓度的N区。然后在P型硅表面生长一层很薄的二氧化硅绝缘层,并在二氧化硅表面及两个N型区各安置一个电极,形成栅极g(Gate)、源极s(Source)和漏极d(Drain)。由于栅极被绝缘,其电阻高达1012~1015Ω。通常将衬底与源极相连,或接地电位,以防止有电流从衬底流入源极和导电沟道。
如果栅极和源极之间所加电压vGS=0,则源区、衬底和漏区形成的两个PN结背靠背串联,d间不导通,iD=0。
当栅源之间加正向电压vGS,且vGS≥VT(VT为开启电压)时,栅极和衬底之间形成足够强的电场,吸引衬底中的少数载流子(电子),使其聚集在栅极下的衬底表面,形成N型反型层,该反型层就构成了d、s间的导电沟道。若此时漏极和源极之间加电压s,将有漏极电流iD产生,如图3.2.2所示。这种在vGS=0时不存在导电沟道,vGS必须增强到足够大时才形成导电沟道的场敚应管,称为N沟道增强型MOS管。
MOS管可视为二端口网络,如图 3.2.3 所示,栅-源为输入端口,漏-源为输出端口,源极为公共端,故称共源极连接。当端口电压不同时,回路电流也将发生变化。因此用 I-V 特性曲线反映电压与电流的关系。MOS管的 I-V 特性包括输出特性和转移特性,分别如图3.2.4(a)、(b)所示。
输出特性曲线是指栅源电压 vGS一定的情况下,漏极电流in与漏源电压vns之间的关系。输出特性曲线分为三个工作区:截止区、饱和区和可变电阻区。
当 vGS<VT,时,导电沟道尚未形成,iD=0,漏-源间电阻很大,可达109 Ω以上,相当于断开,MOS管处于截止工作状态,特性曲线的该区域称为截止区。
当 vGS≥VT,时,产生导电沟道,外加 vDS 较小时,iD随 vDS 呈线性增长。此时MOS管可以看成一个受vGS控制的可变电阻 rds,vGS越大,输出特性曲线越倾斜,等效电阻越小。因此,该区域称为可变电阻区。rds由下式确定。由式(3.2.1)可知,为使 rds尽可能小,应当使 vGS 尽可能大。
当 vDS 继续增加到一定数值使 vDS = vGS - VT,时,沟道在靠近漏极处开始消失,称为预夹断。随着 vDS 继续增加,iD 几乎不再增加,此时的区域称为饱和区。因此,当vDS < vGS - VT,时,N沟道MOS管工作于可变电阻区。当vDS ≥ vGS - VT,时,MOS管工作于饱和区。
转移特性是指在漏源电压 vDS 一定的条件下,栅源电压 vGS 对漏极电流 iD 的控制作用。当MOS管工作在饱和区时,由于 vDS 对 iD 的影响很小,所以不同的 vDS 所对应的转移特性曲线基本重合,可以用一条曲线来表示。这条曲线与横坐标的交点即为开启电压 VT。
1)P沟道增强型MOS管
与N沟道MOS管相反,P沟道MOS管是在N型衬底上制作两个高浓度的P区,导电沟道为P型,载流子为空穴。其符号如图3.2.5所示。通常将衬底与源极相连,或接电源。为吸引空穴形成导电沟道,栅极接电源负极,与衬底相连的源极接电源的正极,即vGS为负值,因此开启电压VT也为负值。而iD的实际方向为流出漏极,与通常的假定方向正好相反。图3.2.6所示为P沟道增强型MOS管的输出特性和转移特性曲线。
2)N沟道耗尽型MOS管
N沟道耗尽型MOS管的结构与增强型基本相同,最大的区别是在生产过程中,在SiO2绝缘层中掺入大量正离子,其结构示意图与符号如图3.2.7所示。vGS=0时,由于正离子的作用,将电子吸引到栅极下面的衬底表面形成N型沟道。当vGS>0时,沟道变宽。在vDS作用下,iD的数值更大。vGS为负,沟道变窄,iD减小,当vGS达到某一负值VP时,沟道完全被夹断,即使加vDS,也不会有漏极电流iD,MOS管截止,VP称为夹断电压。
3)P沟道耗尽型MOS管
P沟道耗尽型MOS管的结构与增强型基本相同,但在SiO2绝缘层中掺入大量负离子,形成P型导电沟道,其夹断电压VP为正值。vGS可以是负值、零或正值。vGS为负值时iD增加,vGS为正值时iD减小。当vGS达到VP时,沟道完全被夹断,MOS管截止。P沟道耗尽型MOS管的符号如图3.2.8所示。
用N沟道增强型MOS管替代图3.1.3所示的开关S构成的电路如图3.2.9所示。MOS管的作用对应于有触点开关S的“断开”和“闭合”,但在速度和可靠性方面比机械开关优越得多。
在图3.2.9所示MOS管开关电路的输入端,加一个理想的脉冲波形,如图3.2.11(a)所示。由于MOS管中栅极与衬底间电容Cgb(即数据手册中的输入电容C1)、漏极与衬底间电容Cdb、栅极与漏极电容Cgd以及导通电阻等的存在,使其在导通和闭合两种状态之间转换时,不可避免地受到电容充、放电过程的影响。输出电压vo的波形已不是与输入一样的理想脉冲,如图3.2.11(b)所示。上升沿和下降沿的变化都变得缓慢了,而且输出vO的变化滞后于输入vI的变化,tpHL 为输出vO由高电平跳变为低电平的传输延迟时间,tpLH为输出vO由低电平跳变为高电平的传输延迟时间。
图3.2.9所示电路中Rd的作用是:当输入为高电平时,流过导通NMOS管的电流很大,Rd起限流作用,但此时消耗在其上的功率也很大。为了克服这个缺点,用另一个PMOS管替代电阻Rd,就构成了CMOS反相器。
CMOS集成门电路简称CMOS门电路,以金属-氧化物-半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor)作为开关器件。由PMOS场效应管和NMOS场效应管以互补对称的形式组成。
概念:在保证输出的高低电平基本不变的条件下,允许输入信号的高低电平有一个波动范围。
输入端噪声容限决定该器件的抗干扰能力
CMOS反相器从一种稳定工作状态突然转变到另一种稳定状态的过程中,将产生附加的功耗。包括两个:
动态功耗 PD = PC + PT
静态功耗 PS:MOS管组成元素PN结,而PN结可以等效为二极管,二极管就会有漏电流,就会才产生功耗。
芯片手册有参数:输入漏电流(input leakage current)
CMOS反相器电路如图3.2.12所示,由两只增强型MOS管组成,其中TN为N沟道MOS管,TP为P沟道MOS管。两只MOS管的栅极连在一起作为输入端;它们的漏极连在一起作为输出端。
当输入v1=VDD时,输出vo≈0;而输入v1=0,输出vo≈VDD。输出与输入之间为逻辑非的关系,也称非门为反相器( Inverter)。CMOS反相器近似于一个理想的逻辑单元,其输出电压接近于零或+VDD。
图3.2.17是2输入端CMOS与非门电路,其中包括两个串联的N沟道增强型MOS管和两个并联的P沟道增强型MOS管。每个输入端连到一个N沟道和一个P沟道MOS管的栅极。电路输岀与输入信号逻辑关系及各个MOS管的工作状态如表3.2.1所示。当输入端A、 B有一个为低电平时,就会使与它相连的NMOS管截止,PMOS管导通,输出为高电平;仅当A、 B全为高电平时,才会使两个串联的NMOS管都导通,使两个并联的PMOS管都截止,输出为低电平。
n个输入端的与非门必须有n个NMOS管串联和n个PMOS管并联。
图3.2.18是2输入端CMOS或非门电路,其中包括两个并联的N沟道增强型MOS管和两个串联的P沟道增强型MOS管。
电路输出与输入信号逻辑关系及各个MOS管的工作状态如表3.2.2所示。当输入端A、B只要有一个为高电平时,就会使与它相连的NMOS管导通,而PMOS管截止,输出为低电平;仅当A、B全为低电平时,两个并联NMOS管都截止,两个串联的PMOS管都导通,输出为高电平。
同样,n个输入端的或非门必须有n个NMOS管并联和n个PMOS管串联。
从以上CMOS与非门和或非门电路可知,输入端的数目越多,则串联的管子也越多。若串联的管子全部导通时,其总的导通电阻会增加,以致影响输出电平,使与非门的低电平升高,使或非门的高电平降低。因此CMOS逻辑门电路的输入端不宜过多。
逻辑门电路的电路符号称为 MIL(美军标准)逻辑符号。数字电子电路通过基本逻辑电路的组合来实现各种逻辑电路功能。
Open-Drain Output
传输门(Transmission Gate,TG)的应用比较广泛,不仅可以作为基本单元电路构成各种逻辑电路,用于数字信号的传输,而且可以在取样-保持电路、斩波电路、模数和数模转换等电路中传输模拟信号,因而又称为模拟开关。
定义:CMOS传输门是一种由控制信号来控制电路通断的门电路,利用PMOS和NMOS的互补性组成
使用普通MOS管做传输门是不行的,因为普通MOS管是单向导通的,源极和衬级连在一起,同时只有一个PN结导通
传输门一般用做模拟开关
Tristate Logic
高阻态(High-Impedance State)
利用OD门虽然可以实现线与的功能,但外接电阻R,的选择要受到一定的限制,因此影响了工作速度。同时它省去了PMOS有源负载,使得带负载能力下降。为保持互补输出级的优点,又可以与总线连接,人们又开发了一种三态输出门电路,它的输出除了具有一般门电路的两种状态,即输出高、低电平外,还具有高输出阻抗的第三状态,称为高阻态,又称为禁止态。
三态输出门电路的输出除了高、低电平外,还有第三个状态-高阻态。因这种电路结构总是接在集成电路的输出端,所以也将这种电路称为输出缓冲器。
闩锁,即Latch-up,是任何CMOS电路中都存在的寄生结构,也是一类引起芯片失效的原因。只要存在PMOS和NMOS的对管,就会存在这种寄生的p-n-p-n的可控硅结构,而一旦触发条件形成,两个寄生三极管构成对电流放大的正反馈通路,从电源到地就会有大电流流过,从而使芯片发热甚至会烧毁芯片,其带来的危害是致命的。
Transistor-Transistor Logic 晶体管-晶体管逻辑(电路)
对于一个逻辑电路,其输出状态在任何时刻只取决于同一时刻的输入状态,而与电路原来的状态无关,这种电路被定义为组合逻辑电路。
大多数数字系统中,除了需要具有逻辑运算和算术运算功能的组合逻辑电路外,还需要具有存储功能的电路。组合电路与存储电路结合构成时序逻辑电路,简称时序电路。
边缘触发器存在空翻现象,为了避免空翻现象,提高触发器工作的可靠性,希望在每个CLK期间输出端的状态只改变一次,则在电平触发的触发器的基础上设计出脉冲触发的触发器。
分类
凡在时钟信号作用下逻辑功能符合表中所规定的逻辑功能无论触发方式如何,均称为SR触发器
在某些场合,需要这样一种逻辑功能触发器,当控制信号T=1时每来一个时钟信号他的状态就翻转一次,而当T=0时,时钟信号到达后他的状态保持不变,这种逻辑功能的触发器称为T触发器
对于一个逻辑电路,其输出状态在任何时刻不仅取决于同一时刻的输入状态,还与电路原来的状态有关,这种电路被定义为时序逻辑电路,简称时序电路。
时序电路中除具有逻辑运箅功能的组合电路外,还必须有能够记忆电路状态的存储单元或延迟单元,这些存储或延迟逻辑单元主要由锁存器或触发器组成。
磁盘:magnetic disk
定义
存储器是数字电路系统中具有记忆功能的部件,由大量的记忆单元组成用来存放二进制数表示的程序或数据
组成
构成存储器的存储介质主要采用半导体器件和磁性材料。存储器中**最小的存储单位就是一个双稳态半导体电路或一个CMOS晶体管或磁性材料的存储元,**它可存储一个二进制代码。由若干个存储元组成一个存储单元,然后再由许多存储单元组成一个存储器
分类
按存储介质分类
按存储方式分类
按存储器的读写功
能分类
按信息可保存性分
类
计算机中的存储器
Sequential Access Memory
Read Only Memory
ROM分类
ROM按构成器件分类
定义:一种可以长期保存信息的存储器,具有断电后信息仍可继续保存的特点,在正常工作时只可读取数据,而不能写入数据
采用掩膜工艺制作OM集成电路芯片时,其中存储的数据是由制作过程中使用的掩膜板决定的
特点:出厂时已经固定,不能更改,适合大量生产简单,便宜,非易失性
内部结构组成:储存矩阵、地址译码器、输出缓存器
浮栅:Floating gate
隧道氧化层:Tunnel Oxide
(SD卡:Secure Digital Card)
(Static Ramdom Access Memory )
与NMOS相比,CMOS存储单元功耗极小的特点,在降低电源电压的情况下还能保存数据。故可用电池供电,从而弥补随机存储器数据因断电而丢失的缺 点。
( Dynamic Ramdom Access Memory )
组成:采用MOS管的栅电容(分布电容)来存储数据,用动态存储单元构成的存储器成为动态存储器
优点:所用元件少,集成度高,功耗低,便于大规模集成
缺点:
刷新方式
种类
单管采用元器件少,故集成度高,且功耗低,所以大容量的动态存储器的存储单元大多采用单管构成
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